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(InNb)_(0.1)Ti_(0.9)O_2不仅具有高介电常数和低介电损耗,而且温度稳定性良好,因此被视为一种有望替代传统介电材料的新型巨介电材料。但是关于巨介电常数的产生机理尚未明确,且两种主流理论——缺陷偶极矩模型和晶界阻挡层模型本质不可调和,因此制备高质量、大尺寸(InNb)_(0.1)Ti_(0.9)O_2单晶对于探究巨介电常数产生机理具有重要意义。另一方面TiO2作为一种常见母体材料,被广泛应用于半导体、光催化、稀磁半导体等领域,具有极高的应用价值。但是TiO2单晶生长存在一个令人困扰的