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W/B<,4>C多层膜制备与表征的研究

被引量 : 3次 | 上传用户：kimimoomoo

【摘 要】

：

多层膜反射镜是软X射线和X射线波段的一种重要光学元件,已经广泛应用于同步辐射、天文观察等研究领域。本文针对X射线波段,重点开展了W/B_4C多层膜反射镜的制作与表征工作。在理论上,结合Fresnel反射原理和Real-Structure界面粗糙度模型,实现了对Cu Kα线(0.154nm)的W/B_4C周期多层膜反射性能的精确计算,根据计算结果,提出了周期多层膜峰值反射率与膜层数的函数关系以及优化

【作 者】

：

代敏 

【机 构】

：

长春理工大学

【发表日期】

：

2009年03期

【关键词】

：

X射线 多层膜 粗糙度 磁控溅射 反射率 散射 

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多层膜反射镜是软X射线和X射线波段的一种重要光学元件,已经广泛应用于同步辐射、天文观察等研究领域。本文针对X射线波段,重点开展了W/B_4C多层膜反射镜的制作与表征工作。在理论上,结合Fresnel反射原理和Real-Structure界面粗糙度模型,实现了对Cu Kα线(0.154nm)的W/B_4C周期多层膜反射性能的精确计算,根据计算结果,提出了周期多层膜峰值反射率与膜层数的函数关系以及优化周期多层膜反射镜膜对数的方法。采用直流磁控溅射技术实现了具有不同膜对数W/B_4C周期多层膜的制备。利用

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