本论文主要阐述光学镀膜设备中电子束技术的应用与开发研究。设计了磁偏转电子枪扫描系统的电路，实现磁偏转电子枪在X、Y两个相互垂直方向偏转扫描以控制其电子束束斑的形状、大小和位置；在此基础上，又进行了磁偏转电子枪的扫描系统改进电路的设计，利用多波段变斜率三角波发生电路偏转扫描实现控制电子束束斑在X、Y两个相互垂直方向每一个点的扫描时间，从而可以控制束斑在每一个点的能量分布；并且提出再一步改进的设想，利用磁场对电子束的偏转，以取代光学镀膜设备中坩埚的机械转动，提高镀膜质量；进行了电子枪高压电源的电路设计，实现6～10KV可调的高压电源，高压采样反馈控制电路实现高压的稳定以及过高压的控制，电子枪电子束工作束流的采样反馈控制电路实现束流的稳定以及过流的控制；完成电子枪灭弧电路的设计，实现消除光学镀膜时真空室易见的拉弧短路现象，灭弧的反应速度可达在60ms时间范围内；论文中还阐述了在在工程现场中电子枪枪头装置的安装调试与故障问题的解决；电子枪高压电源装置的的安装调试与故障问题的解决。