由于溅射薄膜压力传感器具有精度高、蠕变小、抗干扰能力强等诸多优点,因而在工业生产中得到了广泛应用。论文以磁控溅射薄膜压力传感器为对象,综合考虑现有硬件设备、成本和应用需求,确定了磁控溅射薄膜压力传感器的设计指标。在此基础上,开展了敏感元件的制作、信号调理电路的设计以及机械结构的设计等工作,并完成了相关测试工作。论文的主要工作如下:1、在应变电阻转换原理的基础上,对磁控溅射薄膜压力传感器的工作原理及核心敏感元件的应力分布进行了分析研究,并初步确定了敏感元件上的电阻分布。根据传感器的使用特点及溅射工艺要求,设计了电阻图形以及溅射过程中需要的掩膜板。利用磁控溅射技术进行溅射镀膜,分别采用掩膜法和溅射光刻二步法,探索了敏感元件的制作工艺。根据腐蚀后的电阻阻值,选用微细电解法对传感器电阻膜进行阻值调整。2、在传感器信号调理电路设计时,首先对传感器初始不平衡误差、零点温度误差以及灵敏度误差进行了补偿。然后使用INA125UA芯片,设计信号调理电路,对传感器的输出信号进行放大与调理。3、机械结构根据传感器的特点及测试的方便进行了设计,包括基体、联接件、套筒、端盖的设计。4、在上述研究的基础上,研制成功磁控溅射薄膜压力传感器,通过搭建测试平台,对传感器进行了测试,测试结果表明达到了拟定的设计要求。