【摘 要】
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本文简要介绍了软X射线多层膜分束镜的发展及应用情况,并对其设计理论和制备方法进行了较详细的讨论.根据现有条件,采用腐蚀基底法制备了工作波段为13.0nm的软X射线多层膜分
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【出 处】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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本文简要介绍了软X射线多层膜分束镜的发展及应用情况,并对其设计理论和制备方法进行了较详细的讨论.根据现有条件,采用腐蚀基底法制备了工作波段为13.0nm的软X射线多层膜分束镜.实验中所用的多层膜是以单晶硅片作基底的Mo/Si多层膜系,经过硅片镀保护层,镀多层膜,腐蚀基底等过程制备软X射线多层膜分束镜.由于碱液对基底的腐蚀时间较长,使保护层受到一定程度的破坏,影响了多层膜分束镜的质量.尽管如此本实验为以后的研究打下了一定基础.
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