利用现有还原剂制备石墨烯，往往会出现杂质缺陷较多和产物容易团聚等缺点，从而会影响石墨烯应用性能。本论文为了解决上述问题，提出了两种新型的还原剂—二氧化硫脲碱液和碳酰肼碱液，并分别利用这两种新型还原剂和水合肼制备石墨烯，且比较了不同还原剂的还原效果。通过SEM图像发现，新型还原剂制备的石墨烯微片分散良好，没有团聚。通过XRD分析发现，经过三种还原剂处理后，氧化石墨的特征峰都消失，且都出现了石墨烯的特征峰，说明三种还原剂都有一定的还原效果；但是新型还原剂制备的石墨烯相对水合肼制备的石墨烯特征峰位置偏右，强度更高，说明前者碳原子层间距更大，结晶程度更高，还原效果更优。通过Raman光谱分析发现，新型还原剂制备的石墨烯相对水合肼制备的石墨烯IDIG小的多，也即杂质缺陷更少，说明前者还原效果更优。新型还原剂制备的石墨烯的导电性能也更强。根据实验现象及各项表征结果，本论文还对新型还原剂制备石墨烯的机理进行了探讨，并提出了可能的还原机理。最后，将新型还原剂制备的化学还原法石墨烯与常压化学沉积法石墨烯进行比较，发现化学还原法石墨烯的质量提升空间仍很大。