近几年来，克服衍射极限的超透镜光刻技术得到学术界的广泛关注，超透镜在生物医学成像，光学光刻以及数据存储等领域有着巨大的应用潜力。本文主要提到的表面等离子体纳米光刻技术，是建立于表面等离子体激元理论基础之上的近场光刻技术，该技术提高了近场光刻的成像分辨率。本文以超透镜近场光刻技术为主，分别从理论和COMSOL模拟两方面，来对超透镜光刻技术进行探索及分析，提出合理的提高分辨率的光学光刻的方法。本文主要工作如下：1．主要研究加入反射层的单层银膜超透镜系统。通过成像理论和COMSOL软件模拟，分析了在单层银膜超透镜系统中加入反射层后，使得成像质量得到改善的原因。接下来是对加入反射层的单层银膜超透镜系统进行优化，并且分析了一些因素对该模型成像的影响。主要分析的因素有，反射层厚度、光刻胶厚度、入射光偏振态以及入射光波长。由于反射效应，成像图像对比度会显著提高，最终得到对比度0.953的图像。2．设计了一种双层交错结构的超透镜，将其加入到带有反射层的光刻成像系统之中。通过COMSOL软件模拟，双层交错结构的超透镜使得光的透过率显著增强。并对影响该双层交错式模型光刻成像质量的因素进行模拟分析，包括双层交错结构中的单元厚度、单元纵向(沿入射光方向)层数、反射层厚度、光刻胶厚度以及对不同周期的光栅结构的适用性，从而对该结构进行优化。最终，得到了分辨率22nm的光栅图像，对比度0.9以上。