银纳米线透明导电蒲膜的制备与性能研究

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透明导电薄膜的应用非常广泛。但传统的透明导电薄膜制备工艺复杂、成本相对较高、柔性差、低温(常温)制备困难等特点。近几年来,具有高透明性、良好的导电性、良好的稳定性、良好的弯曲性能的银纳米线(Ag NW)透明导电薄膜,可作为新型透明电极材料。银纳米线材料还有可大规模生产、成本低、易制备等优点。此外,银纳米线透明导电薄膜可以通过喷涂、刷涂、棒式涂布、旋涂等简单工艺制备。本文中,我们制备了PEDOT:PSS/Ag NW、PEDOT:PSS/Ag NW/PEDOT:PSS、PEDOT:PSS/Ag NW/ITO复合薄膜。并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对复合薄膜的表面形貌、结构性质表征。用霍尔效应测试仪、双光束分光光度计对复合薄膜的电学性能、光学性能表征。主要工作内容如下:(1)本文采用旋涂方法在PET衬底上制备了PEDOT:PSS/Ag NW复合薄膜,分析了PEDOT:PSS/Ag NW的SEM、XRD性质,分别讨论了Ag NW旋涂周期、PEDOT:PSS缓冲层旋涂周期对PEDOT:PSS/Ag NW复合薄膜的光学和电学性能影响。(2)采用旋涂方法制备了PEDOT:PSS/Ag NW/PEDOT:PSS复合薄膜,研究了复合薄膜的SEM、XRD结构性质,并研究了PEDOT:PSS保护层旋涂周期对PEDOT:PSS/Ag NW/PEDOT:PSS复合薄膜的光学和电学性能影响。探讨了退火时间,以及退火温度对PEDOT:PSS/Ag NW/PEDOT:PSS的电学性能影响。(3)采用旋涂方法和直流磁控溅射方法制备了PEDOT:PSS/Ag NW/ITO复合薄膜,研究了复合薄膜的SEM、XRD结构性质,并分别研究了Ag NW旋涂周期、ITO保护层厚度对PEDOT:PSS/Ag NW/ITO复合薄膜的光学和电学性能影响。
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