【摘 要】
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本论文对于在硅/HF的电化学系统中的微观反应进行了初步的理论分析和实验研究。目前,利用硅/HF的电化学系统刻蚀硅通道因为其特殊的结构而能够应用到很多领域,比如微泵,微通
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本论文对于在硅/HF的电化学系统中的微观反应进行了初步的理论分析和实验研究。目前,利用硅/HF的电化学系统刻蚀硅通道因为其特殊的结构而能够应用到很多领域,比如微泵,微通道板,光子晶体等。电化学刻蚀技术是由多孔硅技术发展而来的,具有高长径比,成本低等优点。本论文中,首先对微通道的应用以及相关原理进行了阐述,在经过广泛调研的基础上自行设计了硅/HF的电化学刻蚀系统,并通过上述系统对n型硅进行了刻蚀实验。同时对在实验中观察到的通道的形成规律,传质效应以及暗电流方面进行了理论分析。最后对于硅/HF体系中的电化学参数(HF溶液的浓度,电压,温度,光照强度等)进行了分析与优化。
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