针对超高密度光信息存储的超分辨掩膜存在记录功率高、灵敏度低的问题，本论文开展了新型超分辨掩膜材料的探索，进行了高灵敏度超分辨掩膜新材料的制备方法、膜层结构的设计、薄膜物理化学性质、光学常数及其对光存储性能的影响与规律的系统研究。　　 制备了用于光信息储存的超分辨掩膜新材料锑铋合金膜Sb1-xBix(x=0.1，0.2，0.3，0.88)。系统研究了锑铋合金膜的光学性质，获得了不同组成比的锑铋合金掩膜在常温及30-300℃下的光学常数、非线性吸收系数、对光斑的调制特性、反射率随温度变化特征、在激光作用下的反射率和透射率变化及其规律。以新材料锑铋合金膜作为掩膜制备的只读式超分辨光盘在动态读出极限为433nm的装置上成功实现尺寸为380nm信息点的超分辨动态读出，并具有读出灵敏度高、稳定性好的特点;设计、制备了蓝光超分辨可录光盘，研究了蓝光超分辨动态记录与读出性能。结果表明:以新材料锑铋薄膜作为掩膜制备的超分辨可录式蓝光光盘在动态分辨率极限为156nm的装置上成功实现最小尺寸为65nm的信息点的超分辨动态记录和读出，并具有较高的超分辨记录读出灵敏度。　　 上述研究结果对于锑铋合金膜作为只读式和可录式超分辨光盘的掩膜的进一步研究与应用具有重要意义。