KDP晶体元件憎水减反化学薄膜的制备和研究

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【摘要】

：

随着惯性约束核聚变在能源和军事上的应用发展,高功率激光器也日益受到更多关注。磷酸二氢钾(KDP)晶体是为惯性约束核聚变提供短波长的必不可少的谐波转换光学元件,其重要程度不言而喻。然而,长期暴露在空气中的KDP晶体容易受潮发雾,不仅降低光透过率,而且缩短其使用寿命。目前为解决这一问题国际上均采用镀膜技术,而溶胶-凝胶法制备的多孔二氧化硅(SiO_2)增透膜因具有良好的光学性质和高的激光破坏阈值而被普

【作者】

：

杨雨婷

【机构】

：

复旦大学

【发表日期】

：

2008年05期

【关键词】

：

光学材料及性能溶胶-凝胶法憎水减反膜

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