六角氮化硼薄膜的电子调制态和碲化锡赝朗道能级的STM研究

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在本论文中,利用扫描隧道显微镜,我们研究了用化学气相沉积法在铜箔表面生长的高质量六角氮化硼薄膜和利用分子束外延法在钛酸锶表面原位生长的碲化锡的表面性质。论文主要取得了以下研究成果:(1)利用扫描隧道显微镜,研究了采用化学气相沉积法在铜箔表面生长出的高质量的六角氮化硼薄膜。扫描隧道显微镜图像显示出该薄膜具有原子级平整的表面,扫描隧道谱则显示,扫描隧道显微镜图像主要反映出的是该薄膜样品隧穿势垒的空间分布。极低偏压的扫描隧道显微镜图像呈现了氮化硼薄膜表面的六角蜂窝周期性原子排列,而高偏压(1-4V)的扫描
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