反射比和透射比是评价光学元件光学薄膜等光学性能的重要参数,也是开发新型光电材料的一个重要依据。本文在单次反射测量法的基础上,结合激光稳功率技术、精密探测技术以及双光路测量技术,研建了一套激光光学元件高反射比、高透射比测量系统,解决了单次反射测量法中由于光源的光强波动和探测器面响应度不均匀所引起的测量不确定度偏大的问题,从根本上解决光学元件和光学薄膜的高反射比和高透射比精确测量问题,不仅实现了不同入射角度的高反射比测量,也实现了高透射比测量,并对测量结果进行了测量不确定度分析,经分析得测试系统在632.8nm波长下高反射比、高透射比的测量不确定度优于0.01%,在1064nm波长下高反射比、高透射比的测量不确定度优于0.015%,最后对光学元件高反射比、高透射比测量技术的前景进行了展望。