本文采用磁控共溅射方法在玻璃基片上制备了纯ZnO薄膜、Cu掺杂ZnO薄膜以及铜、氮共掺杂ZnO薄膜,并通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对样品进行了表征和分析,来探究基片温度、掺杂量等因素对薄膜结构、形貌、光学性能的影响。实验中,通过调节Cu的溅射功率来得到不同的掺杂量,通过气体流量控制氮气、氩气、氧气的流量比例控制氮掺杂量,结果显示所有薄膜都呈现单一相的六方纤锌矿结构,实现了替位式掺杂。同时适当的提高基片温度可提高薄膜结晶度,减少薄膜的压应力,Cu掺杂和基底温度的增加导致薄膜表面更为粗糙和颗粒尺寸逐渐变大。未掺杂氧化锌和Cu掺杂氧化锌薄膜的电阻率随着基底温度的升高而增加,Cu掺杂薄膜的电阻率小于未掺杂的薄膜。未掺杂的薄膜带隙随着温度的变化却不明显,而Cu掺杂导致吸收边的红移,使氧化锌薄膜的带隙变窄。对于铜、氮共掺杂薄膜的研究,发现氮掺杂同样能够降低薄膜的能带宽度。对上述结果用掺杂对载流子浓度和能带结构的影响进行了微观解释。本文研究说明,铜和氮的掺杂是一种调控氧化锌薄膜物理性质的一种有效方式。