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自二十一世纪国家把印染行业的技术改造列入纺织行业重点支持的行业以来,印染行业发展迅速,印染废水问题也越来越严重,普通的水处理方法无法满足日益增长的印染废水处理要求。由于具有节能环保的特点,光催化处理印染废水受到广泛关注。但是单一的半导体光催化剂光生电子空穴对的复合率高,导致光催化剂降解有机物的效果比较差,制约了光催化剂的大规模应用和发展。石墨烯是单层原子构成的材料,其性能优异,具有超大的比表面积、高热导和良好的稳定性,这使其成为与半导体复合制备复合光催化剂降解印染废水的优良载体。本论文用三种不同半导体分别与石墨烯复合制备出复合光催化剂,并运用TEM、SEM、XRD、FT-IR、UV-Vis等分析方法对其进行表征,分析其形貌特征,元素组成和物相结构,研究其光催化性能并探讨其反应机理。采用水热法制备出磷酸铋-石墨烯（BP-RGO）,棒状的BiPO4紧紧贴附在RGO表面,RGO的引入并未改变BiPO4原本的形貌。不同比例的BP-RGO中,BP-RGO-2的光催化效果最佳,在2h紫外光照射下,对罗丹明B（RhB）的降解率达到了94%;经过四次重复使用后,BP-RGO-2复合光催化剂对RhB的降解率仍可达到86%,且没有观察到明显的活性变化。采用高温共聚合法制备出氮化碳-石墨烯（CN-RGO）,复合后的CN-RGO的层状结构比g-C3N4更加紧密,原本疏松的g-C3N4变成CN-RGO类似夹心的结构。不同比例的CN-RGO中,CN-RGO-3的光催化性能最好,在2h模拟可见光照射下,对RhB的降解率达到了85.8%。经过四次重复试验后,CN-RGO-3对RhB的降解率仍可达到83.9%。采用原位沉积法制备出磷酸银-石墨烯（AP-RGO）,在溶液相反应中,Ag3PO4纳米颗粒会聚集到一起且不均匀的分布在RGO上。与纯Ag3PO4相比,适量RGO的加入使AP-RGO的光催化剂活性更高;在不同比例的AP-RGO复合光催化剂中,AP-RGO-15的光催化效果最佳,在30min模拟可见光照射下,对RhB的降解率达到了91%;稳定性实验表明,四次重复试验后,AP-RGO-15对RhB的降解率仍可达到73%。