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水污染在当代社会中面临严峻的挑战。随着纺织、印染、化工等行业的飞速发展,大量色度高、难以降解的有机印染废水排放到环境中,造成严重的污染问题。因此,开发研究出一种新型、高效以及稳定的印染废水处理技术迫在眉睫。本文依据高级氧化技术中的等离子体技术自主开发设计了新型两级介质阻挡放电(DBD)等离子体反应器用以连续处理各种有机印染废水。运用紫外光谱、红外光谱以及液质联用谱图等表征手段对甲基橙废水在该新型两级DBD等离子体反应器中的降解过程和降解机理进行探讨,并且对影响甲基橙废水降解的因素进行了探究。自行开发设计的新型两级DBD等离子体反应器能够高效、连续稳定的处理各种有机印染废水,铬黑T降解率达到99.8%,化学需氧量(COD)降解率达44%左右;亚甲基蓝的降解率达到99%,COD降解率达80%;甲基橙降解率达到94%,COD降解率达48%左右。不同质量浓度甲基橙废水的pH随着放电停留时间的增加而减小;电导率和降解率均随停留时间的增加而增大;甲基橙废水的COD值随停留时间的增加出现减小-升高-降低-平稳的趋势。在该新型两级DBD等离子体反应器中,放电电压13.4kV、电流3A,一级放电间距10mm,二级放电间距10mm时,甲基橙废水的降解反应能够持续高效稳定的进行。13.4kV的放电电压,较低的甲基橙质量浓度以及低的初始pH更有利于甲基橙废水的降解。经过紫外光谱、红外光谱以及液质联用谱图等表征分析,处理130min后的甲基橙废水中只含有NO3-、HOOC(CH2)5SO3-等物质。此外,推测出甲基橙废水在DBD反应器中的降解机理:甲基橙大分子先后经历断键氧化、开环氧化两阶段,最终生成HOOC(CH2)5SO3-等有机羧酸类物质和CO2、H2O。最终甲基橙废水在该反应器中实现了有效的降解。