基于TFDC理论薄膜的制备及其残余应力的研究

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【摘要】

：

进入21世纪以来,由于薄膜材料、电沉积薄膜技术和表面物理技术相互结合和推进,不仅促进了薄膜科学与技术的迅速发展,而且也推动了薄膜产品的开发和应用。在导电基片上电沉积异质金属薄膜,常常会处于应变(受力)状态,薄膜中的残余应力对薄膜器件的稳定性,使用性能和可靠性有很大影响,残余应力产生机制及定量计算一直是人们研究的热点。本文优化了电沉积单层Cu、Ni和Cr薄膜的工艺;并在不同基体材料上电沉积一系列不同

【作者】

：

张伟

【机构】

：

河南科技大学

【发表日期】

：

2010年06期

【关键词】

：

TFDC电子理论薄膜残余应力电沉积 Cu/Ni多层膜

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