Al2O3薄膜因其光学性能优良、机械强度高、透明性与绝缘性好、耐磨损、抗腐蚀、有较高的抗激光损伤阈值及化学性能稳定等特点,近年来倍受国内外关注,已经广泛地应用于光学、机械及微电子等领域。目前制备Al2O3薄膜的方法很多,常用的制备方法有：电子束物理气相沉积、磁控溅射沉积、脉冲激光沉积、离子辅助沉积、化学气相沉积、溶胶凝胶法等。然而溅射工艺参数的选取以及沉积的薄膜结构和性能是人们主要关注的课题。本文使用反应磁控溅射的方法,利用氧气和氩气混合气体在K9玻璃和Si基底上沉积Al2O3薄膜,根据国家标准中牢固度的测量要求：用2cm宽剥离强度不小于2.74N/cm胶带牢牢粘在膜层表面上,垂直迅速拉起后,无脱膜现象,薄膜牢固性良好。同时研究和分析了各工艺参数对Al2O3薄膜沉积速率的影响。利用椭偏仪测试及分析了薄膜的光学性能。测试表明：氩气在45sccm的情况下,氧气的最小流量为18sccm,制备的Al2O3薄膜在可见光范围内,折射率在1.62左右,消光系数在0-1.0×10-3,沉积速率0.07 nm/s。使用XRD分析薄膜晶体结构,发现本实验方法所沉积的薄膜在未退火情况下为非晶态,并分析不同工艺参数对薄膜结构的影响。利用SEM观测Al2O3薄膜的表面形貌,观察工艺参数的改变对薄膜形貌的影响。使用XPS对Al2O3薄膜成分进行分析,薄膜中Al：O比位于2：3附近,得到了较纯的Al2O3薄膜。结果表明：Al2O3薄膜沉积速率、光学特性,以及抗激光损伤特性对氧气浓度、靶功率,溅射气压和靶基距等工艺参数有着很大的依赖性并随之有规律性的变化。