【摘 要】
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LSMCD（Liquid Source Misted Chemical Deposition）技术是一种新型的制备铁电薄膜的技术,它继承了甩胶工艺的优点,同时又有效地解决了甩胶工艺的缺点,因而是一种较MOD和Sol-Gel
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LSMCD（Liquid Source Misted Chemical Deposition）技术是一种新型的制备铁电薄膜的技术,它继承了甩胶工艺的优点,同时又有效地解决了甩胶工艺的缺点,因而是一种较MOD和Sol-Gel工艺先进的薄膜制备技术.该文详细介绍了LSMCD技术的基本原理和设备改进.LSMCD基本原理为：将先体溶液以一定比例用溶剂稀释成为初始溶液,放入雾化容器中,然后采用超声雾化产生微米级或次微米级尺寸的气雾;再由载气将气雾引入沉积室内,沉积在基片上;然后在沉积室中进行预热处理;重复此过程直至膜达到所需厚度,最后再进行退火处理.我们依据现有的设备水平和可达到的改进能力,设计并改进了设备以实现LSMCD技术,经过大量实验证明该设备能够正常工作.最终我们采用LSMCD技术,以MOD工艺先体溶液稀释为初始溶液,制备了PLT（镧钛酸铅）铁电薄膜,通过XRD分析,制备的薄膜具有钙钛矿相结构.LSMCD技术制备PLT铁电薄膜的最佳热处理工艺为：预处理300℃,保温10分钟,然后退火至600℃,保温1小时.
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