磁控溅射Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜的制备及摩擦学性能研究

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【摘要】

：

Ti-Al-N和W-Ti-N金属间化合物均是典型的硬质薄膜,且具有很好的抗氧化性、良好的耐磨性,因而受到广泛的关注。磁控溅射制备Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜薄膜过程中,通过改变基体位置可以方便地控制薄膜的化学成分,使得研究过程大为简化,且有效降低成本。本实验中使用纯Ti和纯Al双靶以及纯Ti和纯W双靶磁控共溅射,同一溅射过程薄膜厚度相同而不考虑情况下,通过改变基片相对于靶材的位置,在不锈钢基体

【作者】

：

李学超

【机构】

：

江苏大学

【发表日期】

：

2010年01期

【关键词】

：

双靶反应磁控溅射 Ti-Al-N薄膜 W-Ti-N薄膜摩擦磨损基体位置

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