耐高温陶瓷烧结过程中光谱测量与分析

来源 :长春理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xpzcz1994
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耐高温陶瓷被广泛应用于航空、航天及电力系统等多个领域的高温作业条件下。随着对耐高温陶瓷材料热物性的深入了解,研究其真实温度和发射率势在必行。本文利用多光谱辐射测温法,基于普朗克定律,在400-900nm波段反演耐高温陶瓷材料的真实温度和发射率。首先,针对热辐射能量的传递过程,搭建采集原位光谱的实验平台,可获得材料在烧结过程中的热辐射谱。基于该热辐射谱,分析材料热辐射能量在高温炉加热区、探测处及光谱仪内部的传输特性,研究了光谱数据预处理方法。通过去背景、降噪及利用仪器传函修正,消除背景和噪声,获得理想光谱数据,为材料真温和发射率的进一步反演计算提供数据基础。其次,基于光谱数据进行了材料真实温度和发射率的反演算法研究。通过建立不同的发射率模型(波长与发射率之间的函数关系不同),模拟材料在相同温度下的热辐射谱,利用牛顿迭代法及发射率的缓变特性两种算法,解决了辐射测温中n个方程,n+1个未知数的欠定问题。分别用理论热辐射谱的模拟数据和黑体腔的实验数据对这两种算法进行验证。结果表明,发射率的反演结果与实际发射率线形一致,同时温度的计算结果接近于设定温度。最后,采集了三种典型硅基耐高温陶瓷材料SiC、SiO2和Si3N4在设定温度分别为1273K、1373K、1473K及1573K的热辐射谱;并利用上述两种算法反演出不同温度条件下材料的真实温度和发射率谱。两种算法反演的发射率拟合度较好。当发射率缓变程度较大时,缓变特性法的反演结果较好,温差小且发射率的计算结果信噪比低。本论文研究工作中温度反演算法及结果对陶瓷材料在烧结过程中的温度控制提供参考,发射率反演算法及结果可以应用于陶瓷烧结过程中微结构演变分析。反演算法也适用于其他材料温度和发射率研究,为建立各种材料在不同温度下的发射率数据库提供了有效途径。
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