大面积均匀纳米薄膜制备是大面积光刻中的关键技术,纳米薄膜的一致性和均匀性尤为重要。本文总结了超声雾化沉积法制备聚甲基丙烯酸甲酯纳米薄膜,初步探讨了该方法在大面积均匀纳米薄膜制备中的可行性。同时,分析了薄膜的检测方法。本论文针对当前大面积光刻中需要的大面积均匀纳米薄膜制备关键技术展开工作,研究超声雾化法制备大面积均匀纳米薄膜制备技术,探索一条廉价、有效的大面积均匀纳米薄膜制备技术,研究衬底材料及环境等因素对纳米薄膜质量的影响。大面积纳米薄膜制备技术的突破将是实现激光干涉纳米光刻制备大面积纳米结构的必要保障和前提。随着薄膜材料的广泛应用,薄膜性能和厚度的测试变得尤为重要。薄膜的厚度决定性地影响薄膜的光学性能、力学性能和电磁性能等,所以准确地检测薄膜厚度已经成为一种关键性的技术。利用超声雾化沉积技术生成的甲基丙烯酸甲酯薄膜,并利用原子力显微镜(AFM)等测试手段对结构和形貌进行检测,以及激光干涉法对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的厚度进行测量。研究了各生长条件,如衬底温度、载气流量、衬底到端口的距离、干燥热处理对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的结构和性能的影响[1]。