PD CMOS/SOI抗辐射54HC电路设计及制造

来源 :中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:heirenmading
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抗辐射CMOS/SOI器件和电路的一直是应用领域的研究焦点,本论文以在注硅加固的抗辐射SIMOX SOI材料上设计制作4款抗辐射的54HC系列电路为目的,开展抗辐照CMOS/SOI器件和电路的研究,并分别建立了CMOS/SOI器件的精简模型和特殊栅结构CMOS/SOI器件模型。   本论文中将部分耗尽CMOS/SOI器件的正栅晶体管和寄生双极晶体管简化成等效电路图,提出了一个简化的、同时又具有较高精度的CMOS/SOI器件精简模型,适合电路快速计算机模拟。同时建立完整模型参数提取方法,提取器件模型参数。并对提取得到的模型参数进行验证,模拟结果与实际测试误差均小于5%,能满足较高精度的电路快速仿真需要。   建立了特殊栅结构的CMOS/SOI器件模型,可以对抗辐照设计中的环栅和其他特殊的不规则栅结构的CMOS/SOI器件计算其等效宽长比,以及对源漏电阻、电容、体接触电阻等其他受影响模型参数做出调整,使其电学特性模拟达到最准确精度。通过比较模拟和实验测试结果,证明所建立的模型具有较高的精度。适合抗辐照的电路设计应用。   最后在注硅加固的抗辐射SIMOX SOI材料上,设计制作了包括54HC00、54HC02、54HC08、54HC32等多款抗辐照的CMOS/SOI电路。电路中采用在独特的具有两端体引出的多边形环栅结构,以提高电路的抗总剂量辐射性能。电路的最高工作频率、静态功耗、输入高(低)电平、输出高(低)电平及延迟时间等性能达到现有54HC系列芯片的要求。通过辐照试验表明,利用注硅加固的SIMOX材料,结合抗辐射的版图设计,制作的54HC系列电路,在总剂量辐射达到2Mrad(Si)的时候,转换电压漂移小于0.23V,漏电流小于0.2uA,具有良好的抗总剂量辐射能力。
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