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用C_6H_6和CF_4作为源气体，在微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中(ECR-CVD)，制备了氟化非晶碳膜(a-C:F,H膜)，并对其进行真空退火处理。用台阶仪测量退火前后膜厚的变化；用傅立叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)分析了膜中的基团和键结合态；用紫外-可见光谱(UV-VIS)分析了膜在紫外可见光区的光吸收特性；利用电桥法测量了膜的C-V特性，考察了膜的介电性质。并重点研究输入的微波功率和退火温度对a-C:F,H膜结构和性质的影响。