原子层沉积技术制备N、Fe掺杂TiO2光催化薄膜技术的研究

来源 :山东科技大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:icewangb
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随着现代工业的发展,大量废气、废水被排放到大气和江河湖海中,对空气环境和水环境造成严重的影响。传统技术不同程度地存在着效率低、处理不彻底、使用范围窄、能耗高等缺陷。TiO2半导体光催化技术是一门新兴环保技术,具有安全无毒、稳定性好、催化活性高、能耗低、可重复使用等优点。但TiO2作为光催化剂存在两个大问题:一是TiO2半导体载流子复合率高,量子效率低;二是带隙较宽,光吸收仅限于紫外光区,太阳光利用率低。  利用原子层沉积技术沉积温度低、薄膜厚度精确可控、保形性好等优势,在不同衬底温度条件下制备纯TiO2薄膜样品,且通过交替生长的方式制备N、Fe掺杂TiO2薄膜,利用椭偏仪、XRD、TEM、AFM、XPS、ICP-MS等进行样品表征,并对其在可见光下的光催化效果进行了评价。实验结果表明:TiO2薄膜生长速率与衬底温度密切相关,以Ti(OCH(CH3)2)4与H2O为前驱体制备TiO2薄膜的窗口温度为200-250℃;当衬底温度高于200℃时TiO2薄膜为锐钛矿型,低于这一温度为非晶态;薄膜的表面形貌特征参数与衬底温度有一定的关系,且N和Fe元素的掺杂试样具有较高的RMS,这在一定程度上可提高薄膜吸收光照的有效面积;XPS结果表明N原子能够进入TiO2晶体内置换O原子,形成Ti-N键;N或Fe掺杂的TiO2薄膜在可见光下的光催化性能均有较大提高,不同掺杂含量N元素的催化活性均优于Fe元素掺杂,且N元素掺杂含量对薄膜可见光催化活性影响较小,Fe元素掺杂含量在掺杂含量为3.13%时效果最好。  采用密度泛函理论广义梯度近似,分析N和Fe取代锐钛矿TiO2中O或Ti的位置,掺杂TiO2的模型结构用2×1×1、3×1×1和2×2×1的锐钛矿超晶胞修正,使N或Fe元素掺杂浓度分别为6.25%、4.17%和3.13%,并用基于密度泛函的参数进行了优化计算。结果显示:N原子2p轨道和O原子2p轨道上的电子杂化致使禁带宽度降低,N掺杂TiO2的光吸收阀值发生明显“红移”,且N元素掺杂含量为3.13%时效果最为明显。Fe元素的3d轨道分别参与了价带和导带的组成,形成了杂化轨道,并在靠近价带顶的禁带中形成了新的杂质能级,缩小了带隙宽度,致使Fe掺杂TiO2的光吸收系数阀值发生“红移”,且“红移”程度在所研究得范围内随Fe元素掺入量的增加而增大。
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