随着计算机技术的快速发展,作为计算机数据存储的主要部件的硬盘相应朝着大容量、高转速、小体积和高安全性的方向发展。为了减小磁盘盘片的最小记录面积、提高硬盘存储密度,要求磁头与磁盘盘片之间的距离进一步减小。在如此小的间隙间,磁盘盘片的表面波纹度、粗糙度以及纳米划痕对磁头的飞行稳定性的影响日益明显,因此研究磁盘盘片的表面质量对硬盘的磁头/磁盘系统的静态特性的影响有重要意义。化学机械抛光是磁盘盘片获得光滑表面质量的最终精加工手段,它是迄今为止唯一个能实现全局平坦化的技术,但是该技术是从实际生产中发展起来的,理论上尚缺乏深入的研究。本文建立了抛光垫凸起变形为塑性变形和弹性变形时的化学机械抛光的机械作用材料去除机理模型,并通过数值模拟获得了抛光压力、抛光液中的磨粒浓度、抛光垫与磁盘盘片的相对运动速度这三个变量对材料去除速率的影响。随着磁头滑块和盘片间的距离持续减小,硬盘表面粗糙度的影响也日益突出。本文采用LSFD法求解了考虑气体稀薄效应的雷诺方程的,并研究了盘片表面粗糙度呈正弦曲线变化时粗糙度方向及粗糙度模式对硬盘的磁头/磁盘系统超低飞高气膜静态特性的影响。数值模拟得到了盘片表面粗糙度沿滑块长度方向和宽度方向以及横向粗糙度、各向同性粗糙度、纵向粗糙度三种粗糙度模式对磁头/磁盘系统压力分布、承载力等静态特性的影响。盘片和磁头滑块的表面容纳系数对硬盘对硬盘磁头/磁盘系统静态特性的影响越来越重要,本文采用了LSFD法求解了自由分子区域的MGL方程及剪力方程,研究了表面容纳系数对磁盘盘片和磁头滑块表面的压力分布及剪力分布的影响。本文的研究成果将有助于提高磁盘盘片表面加工质量,深入了解硬盘表面质量对硬盘的磁头/磁盘系统静态特性的影响,这对硬盘的设计和生产具有指导意义。