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Sb-Se系和Ge-Sb-Te系相变光盘记录介质材料研究
Sb-Se系和Ge-Sb-Te系相变光盘记录介质材料研究
来源 :西南交通大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhezhe_1207
【摘 要】
:
该文利用石英管真空保护熔炼技术对Sb-Se系和Ge-Sb-Te系记录介质合金进行熔炼,对其组织进行了分析,并利用DSC,X射线衍射仪,分光光度计等对Sb-Se系和Ge-Sb-Te系记录介质的热力
【作 者】
:
陈志武
【机 构】
:
西南交通大学
【出 处】
:
西南交通大学
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
相变光盘
记录介质
热力学
光学
薄膜
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该文利用石英管真空保护熔炼技术对Sb-Se系和Ge-Sb-Te系记录介质合金进行熔炼,对其组织进行了分析,并利用DSC,X射线衍射仪,分光光度计等对Sb-Se系和Ge-Sb-Te系记录介质的热力学参数,非晶态薄膜相变前后结构的变化,光学性能进行了系统的研究.
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