目的：远移下颌磨牙是正畸矫治的一个重要方法。传统正畸治疗用组牙支抗推磨牙远移。近年来微种植体被广泛应用，微种植体支抗也被应用于远移下颌磨牙。本研究通过建立包含牙列、牙周膜、下颌骨、标准MBT直丝弓托槽、弓丝、微种植体的三维有限元模型，研究分析将微种植体植入不同位置、采用不同牙齿移动方式以及拔牙创不同愈合期远移下颌磨牙时牙齿所受应力和初始位移情况，探讨远移下颌磨牙的适宜方式，为临床远中移动下颌磨牙提供生物力学参考。方法：1.选择一名牙列完整的健康女青年志愿者行头颅螺旋CT扫描，利用有限元建模软件建立包含牙列、牙周膜、下颌骨、标准MBT直丝弓托槽、弓丝、微种植体的三维有限元模型。2.在所建三维有限元模型上，设置三组工况。工况一在下颌第一与第二磨牙间直接置镍钛推簧，模拟镍钛推簧加载150g力，远移下颌第二磨牙；工况二在工况一的基础上将同侧中切牙至第一磨牙整体连扎；工况三在工况一的基础上将微种植体植入于下颌第一与第二磨牙牙根间，微种植体与第一磨牙相连。观察各支抗牙与第二磨牙应力分布及初始位移情况。3.在所建三维有限元模型上，将微种植体植入于下颌第二前磨牙与第一磨牙牙根间，微种植体与第二前磨牙相连，第二前磨牙与第一磨牙间置镍钛推簧同时远移下颌第一与第二磨牙，模拟镍钛推簧分别加载150g、200g、250g、300g力，观察支抗牙与磨牙应力分布。4.将微种植体植入于双侧第二磨牙远中颊侧，直接用镍钛拉簧牵拉双侧侧切牙与尖牙间牵引钩远移整个下颌牙列，模拟镍钛拉簧分别加载200g、300g、400g力。观察微种植体、磨牙与各支抗牙应力分布及初始位移情况。5.在所建三维有限元模型上，将微种植体植入于双侧第二磨牙远中颊侧，直接牵拉远移下颌牙列。将一侧第二磨牙远中设置为第三磨牙拔牙窝，将拔牙窝内组织分别设置为肉芽组织、结缔组织、不成熟骨组织、成熟骨组织，模拟拔牙创不同愈合期，观察拔牙创不同愈合期远移下颌牙列时牙齿应力分布及初始位移情况。结果：1.建立了精确度较高的，包含牙列、牙周膜、下颌骨、标准MBT直丝弓托槽、弓丝、微种植体的三维有限元模型。2.三种工况下颌第二磨牙牙周膜最大Von-mises应力值分别为24.03kPa、24.03kPa、23.75kPa、低于牙周膜可承受的最大应力水平26kPa。工况二支抗牙牙周膜Von-mises应力值、牙齿Von-mises应力值及初始位移值都比工况一减小，但相差不大。工况三较工况一第二磨牙初始位移值增大，第一磨牙牙周膜最大Von-mises应力值增大，近中向倾斜趋势增大，其余支抗牙牙周膜Von-mises应力值、牙齿Von-mises应力值与初始位移值均明显减小。3.随着加载力值的增加，牙周膜Von-mises应力值呈现逐渐上升趋势。当加载300g时，第二前磨牙与第一磨牙牙周膜最大Von-mises应力值分别为27.85kPa、28.01kPa，均超过26kPa；加载250g力时，第二前磨牙与第一磨牙牙周膜最大Von-mises应力值分别为23.21kPa、23.34kPa，均未超过26kPa。4.当加载400g力时，侧切牙与尖牙牙周膜最大Von-mises应力值分别为27.50kPa、20.67kPa，侧切牙牙周膜最大Von-mises应力值超过26kPa；加载300g力时，侧切牙与尖牙牙周膜最大Von-mises应力值分别为20.62kPa、15.50kPa，均未超过26kPa。下颌第二磨牙在受150g推力后，远中倾斜伴舌向旋转运动；下颌第一与第二磨牙在受250g推力后，远中倾斜运动。下颌牙列在受300g拉力远移后，第一磨牙接近整体远移、第二磨牙远中倾斜趋势减小。这三种工况微种植体最大初始位移值分别为0.27um、0.35um和0.46um，微种植体骨界面皮质骨最大Von-mises应力值分别为3.41GPa、6.07GPa和14.69GPa。5.在拔牙创不同愈合期远移下颌牙列，牙周膜Von-mises应力值均低于26kPa。早期移动牙齿位移有增大的趋势，且相比前牙，磨牙最大初始位移值增大幅度较大。结论:1.在推下颌第二磨牙远移时，将支抗牙“8”字整体结扎并未能明显增强支抗，微种植体间接支抗能够有效的增强支抗，但支抗牙仍向近中移动，仍有支抗丢失。2.250g力为同时远移下颌第一与第二磨牙的适宜力值。3.300g力为远移整个下颌牙列的适宜力值。4.当需要远移多颗牙齿时，成组牙齿移动较逐个牙齿移动有利于磨牙整体移动，有利于缩短矫治时间。5.可以考虑在下颌第三磨牙拔牙创愈合早期远移下颌牙列。