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依据等离子体物理学中气体放电理论基础,将气体放电引入强辉弱弧区间时,镀料粒子会以“碰撞电离加阴极热电子发射”方式脱离靶面,并获得较高的离化率和较高的密度。本文通过构建一个脉冲周期内先小后大递进式的双脉冲电场环境,将气体放电引入强辉弱弧区间,同时可利用前期弱离化阶段的原子电离降低后期强离化阶段的极间场强,并通过减少高离化镀料粒子再次返回阴极靶面的几率,从而提升薄膜的平均沉积速率。本课题在双脉冲电场模式下,通过改变峰值电流与沉积时间,在GCr15基体上沉积TiN薄膜,讨论其对TiN薄膜微观结构、形貌、化