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本文利用ORTUS-700电子束真空镀膜设备和X射线衍射仪、原子力显微镜、X射线光电子能谱分析仪等多种分析方法,系统研究了用真空物理沉积(PVD)方法制备Hfo_2和MgF_2薄膜过程中的膜厚控制精度和薄膜结构及缺陷演化问题,同时对所制备的样品进行了带电粒子辐照试验,可为制备更高性能的紫外光学薄膜及评价其抗辐照性能提供技术支撑。研究表明,沉积温度对膜厚控制有明显影响。在对大量试验数据分析的基础上,获得了两种薄膜晶控与光控误差的统计规律,进而提出了薄膜光学厚度与物理厚度修正关系式,计算结果显示,经修正