本论文以砷化镓半导体生产加工含砷废水处理工程为依托,综合分析了目前国内外含砷废水处理技术的发展现状和趋势,结合半导体生产加工含砷废水的实际情况,通过试验研究,明确了基于氯化铁混凝沉淀的除砷方法适合于本含砷废水的除砷处理。根据处理要求和现场条件,最终确定了以水量水质调节+两级氯化铁混凝沉淀+砂滤为主体技术的工艺路线,随后通过施工图设计、工程建设、工艺调试和成本效益分析,完成了砷化镓半导体生产加工含砷废水处理工程的建设和试运行,取得了良好的效果,最终出水平均砷含量可被稳定地控制在0.02mg/L以下。通过分析对比氯化钙、聚合氯化铝和氯化铁对于该含砷废水的处理效果,确定了氯化铁混凝沉淀的处理方案。试验研究发现氯化铁混凝沉淀单级处理在满足出水达标的前提下,由于泥渣产生量过大和污泥沉降时间过长,实际操作可行性较差；与单级处理相比,一级处理侧重于污泥沉降、二级处理侧重于出水达标的两级处理可显著减少氯化铁的用量和泥渣的产生,使工艺的操作性得到了较大的改善。为增加工程运行的灵活性和可靠性,工艺采用序批式运行方式。通过工艺设计计算、工程材料选择、设备确定,完成了部分工艺专业的施工图设计,同时对电气专业和仪表控制专业的设计要求和内容进行分析,整体上清晰工程施工图的设计内容和设计要求。在工程施工过程中通过施工组织管理、施工准备和指导工程施工,确保工程的安全、质量和进度。通过调试,包括：控制系统调试、单机调试、联机调试和工艺调试,掌握相关调试的方法和注意事项,积累调试经验,最后顺利完成工艺试运行。本含砷废水处理工程的建成和成功运行说明了以两级氯化铁混凝沉淀为主要方法的除砷工艺能较好地应用于砷化镓半导体生产加工废水的处理,对相关行业含砷废水的深度除砷也具有很好的示范作用。