过渡族金属掺杂ZnO薄膜的晶体结构、磁性能和光学性质研究

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【摘要】

：

采用电子束溅射法制备了不同工艺条件的过渡族金属(Fe、Co、Cu)掺杂ZnO薄膜。通过对样品薄膜的结构分析，系统研究了在不同的工艺条件下如衬底类型、衬底温度、氧分压、退火温度，以及Cu掺杂含量对薄结晶状况的影响，找出薄膜结构最佳工艺参数，获得沿c轴高度择优取向的高质量ZnO薄膜。我们采用原子力显微镜(AFM)方法观察薄膜的显微结构，利用所得的图象信息对薄膜的晶粒结构、晶粒取向、表面形态平整度等进行

【作者】

：

方东明

【机构】

：

安徽大学

【发表日期】

：

2004年05期

【关键词】

：

ZnO薄膜掺杂电子束溅射磁性光致发光

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