纳米级工艺下SRAM结构研究

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静态随机存储器(SRAM)作为最重要的存储器之一,是现代SoC中关键部分,其功耗及稳定性等各方面性能是整个芯片性能的关键因素。半导体工艺进入纳米级以后,参数波动越来越大,漏电流功耗也越来越大,使得SRAM的设计在稳定性、功耗等方面面临新的问题。论文通过分析纳米级工艺下集成电路设计面临功耗及稳定性方面的问题,进而对SRAM单元的功耗、稳定性等方面进行了深入的研究与分析。介绍SRAM单元电路中降低功耗的门控电源机制、晶体管堆叠机制、体偏置效应及使用FinFET晶体管方法的应用并比较其结果,并介绍分析SRAM结构稳定性的指标静态噪声容限,增强单元电路稳定性的动态电源机制以及几种提高稳定性的SRAM单元结构。论文分析了SRAM中动态功耗与静态功耗的来源并通过仿真分析其大小,同时还分析了结构中噪声的来源,介绍了蒙特卡罗分析法,并通过2000次蒙特卡罗仿真分析了噪声对SRAM结构读静态噪声容限的影响。论文通过对SRAM单元功耗、噪声来源及改进思路的研究,进行了结构上的重新设计,并在此基础上提出了一种新型的单端读不对称8晶体管SRAM单元结构。继而详细介绍了该新结构的组成及工作原理,分析其功耗及噪声来源。最后对比标准6晶体管SRAM单元各方面的性能,对新8晶体管单元的功耗及稳定性进行评估。本文在提出的新结构基础上通过辅以门控电源技术、亚阈值电压机制、动态电源法以及使用双栅结构晶体管来进一步提高其功耗、稳定性方面的性能,并比较结果。
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