【摘 要】
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论文采用多靶磁控溅射仪制备了一系列不同N2含量的CrN单层膜、不同Si靶功率的CrSiN复合膜、不同Al靶功率的CrAlN复合膜、不同V含量的CrSiVN复合膜和不同W含量的CrSiWN复合膜。采用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪和摩擦磨损仪等对薄膜的化学成分、组织结构、表面形貌、显微硬度、弹性模量及室温摩擦磨损性能和高温摩擦磨损性能进行了研究。对不同N2含量的CrN薄膜的研究表明：CrN薄膜有
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论文采用多靶磁控溅射仪制备了一系列不同N2含量的CrN单层膜、不同Si靶功率的CrSiN复合膜、不同Al靶功率的CrAlN复合膜、不同V含量的CrSiVN复合膜和不同W含量的CrSiWN复合膜。采用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪和摩擦磨损仪等对薄膜的化学成分、组织结构、表面形貌、显微硬度、弹性模量及室温摩擦磨损性能和高温摩擦磨损性能进行了研究。对不同N2含量的CrN薄膜的研究表明：CrN薄膜有六方结构（hcp）的Cr2N和面心立方（fcc）的CrN2种结构，在N2流量为1sccm时CrN
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Mobile High-Definition Link，即MHL，指的是一种新型移动终端标准接口[1]。MHL技术旨在完成视频的输出与接入，接口同时兼容普通的micro USB，另外MHL的工作电流和功耗都非常低，种种优势证明MHL同步传输技术是将来手机视频数据高清输出的一个发展趋势。作为国内电视机行业的领军者，TCL一直以来非常注重创新交互技术在电视产品上的应用，虽然现在已有通过Wifi、Blu
对企业产品的零部件信息进行分类、编码,使之适宜于计算机管理,是PDM系统需要解决的首要问题。所以零部件分类编码系统是PDM系统的基础,且编码的优劣是PDM系统运行效率和企业能否接受PDM系统的关键性指标。因此本文对基于PDM系统的零部件分类编码相关的技术原理,实现方法和应用等内容进行研究。论文的主要研究内容和研究成果包括以下几个方面：第一,论文对PDM相关的相关内容进行研究,包括PDM产生的背景,
自从1984年，南极哈雷湾观测站发现到南极洲上空的臭氧层出现了空洞之后，人们开始逐渐关注含氯化合物的使用带给地球的危害。在维也纳条约和蒙特利尔签订之后，含氯制冷剂被全面禁止使用也已经只是一个时间的问题，而且，在中国，这个时间正在从2020年被逐渐的被提前。世界的制冷行业之所以能够在短短的六十年之内迅速的从无到有，最后变成一个巨大的产业，在很大程度上就是有当时看来性能最为优秀的氟氯昂制冷剂，现在一旦
黑体空腔常作为标准黑体辐射源应用于红外辐射温度计的标定、光谱的测量以及高温辐射温度计中。表征黑体空腔辐射特性的发射率测量困难,一般采用计算的方法获得,传统的研究方法都有各自的局限性。本文提出一种计算腔体有效发射率的有限元分析新方法,该方法尤其适合结构复杂腔体的有效发射率的计算,本文主要研究内容如下：(1)研究腔体积分发射率和有效发射率的有限元计算方法。根据积分发射率定义,利用能量守恒原理将反作用热
当下,人们享受到现代社会的福利,对使用的产品要求更加严格和多样,这对企业是一个巨大的挑战。在激烈的市场竞争中,生产的快速和灵活性成为企业追逐的目标,为了处理这一难题,混流装配线应运而生。混流装配线能够充分利用装配线的物理资源和人力资源,在同一时间内同时生产几种相似的产品,使生产效率大大提高,并减少了总的生产成本,是目前在制造业中被广泛应用的一种生产组织方式。而企业现在的生产都是根据订单来安排,如何
本文利用多靶磁控共溅射系统在单面抛光的Si(100)基底上合成了Zr-Nb-N和Re-B-Ti-N纳米复合薄膜。X射线衍射(XRD)用来测试薄膜的晶面取向。利用X射线光电子能谱(XPS)和能谱仪(EDS)测试薄膜的化学成分、元素的百分含量和原子的结合能。表面轮廓仪测试薄膜的厚度和残余应力,纳米压痕仪被用来测试薄膜的硬度、弹性模量和膜基结合力。实验中,通过改变靶材的溅射功率、沉积时的基底偏压、沉积时
BiFeO3(BFO)是斜六方畸变钙钛矿的结构,属于R3c空间群。它是为数不多的,在室温下同时呈现铁电性(居里温度Tc=810℃)和G型反铁磁性(奈尔温度TN=380℃)的单相多铁材料。BFO在理论上具有极大的饱和极化强度(大约为100μC/cm2),但BFO陶瓷的实验值只有几个μC/cm2。理论值与实验值的巨大差异主要是因为制备过程中Fe3+离子易转变为Fe2+离子,产生氧空位,使材料产生很大的
本文在LaAlO3单晶基底上采用无氟金属有机物沉积（Metal-OrganicDeposition, MOD）化学法制备了第二代YBCO高温超导薄膜。YBCO薄膜最终的材料结构、超导性能与处理工艺的各项参数直接相关，本文研究了浸涂参数、外延生长温度、外延生长时间、水分压、添加剂等对薄膜结构与性能的影响。采用TG-DTA考察前驱液溶剂失重温区和羧酸盐溶质的分解温区；XRD图谱扫描证实薄膜具有高度一致
TiAlN薄膜作为TiN硬质薄膜最有前景的替代材料，比TiN具有更优良的性能：硬度高、高温稳定性好、摩擦系数低等。因此，TiAlN薄膜广泛应用于切削刀具、模具等领域。TiAlN薄膜的晶体结构和力学性能在很大程度上取决于Al的含量，当Al含量超过TiN的固溶度时，立方相(c)TiAlN向六方相(h)转化而使其力学性能显著降低。因此，TiAlN薄膜中Al含量的控制显得特别重要。本文采用直流、射频反应磁
随着信息、电子和电力工业的快速发展,特别是移动电子设备、固定的动力系统、混合动力电动汽车的发展等迫切需要一种能积累大量能量并能瞬间释放的脉冲电源，即高能量密度和功率密度的超级电容器。为了得到高性能的大容量储能电容器，近年来研究的对象主要集中在制备高储能密度电介质材料上。寻找高介电、低损耗的聚合物电介质材料，一直是高储能密度电介质材料研究的主要问题。尽管在聚合物介电改性方面已经取得了很大的进展,但是