微弧氧化是一种镁合金表面改性的高新技术,在传统阳极氧化技术基础上改进而来。因其工艺简单,绿色环保,工序少,并且微弧氧化膜层不光耐磨性好,而且与基体结合紧密,硬度高。所以是当前热门的表面改性工艺之一。在微弧氧化处理过程中,当加载电压到起弧电压之上,表面出现电弧;当电压下降到起弧电压之下,电弧消失。为了研究起弧时间和熄弧时间对微弧氧化膜层的生长和性能的影响,根据带放电回路模式中脉冲高电平保持时间（放电时间）等于起弧时间,脉冲低电平保持时间（冷却时间）等于熄弧时间的特点。本文创新性地将放电时间和冷却时间视为两个独立的电参数,改变放电时间或冷却时间的同时固定另一个保持不变,以镁合金为试样设计不同放电时间和冷却时间的实验,并根据放电时间和冷却时间反算出对应的频率和占空比。同时为了实验的可比性,设置每个实验方案总的放电时间都相等100 s,并根据这一条件反算出每个实验方案对应的微弧氧化加工时间。膜层制备好以后检测膜层的厚度和耐蚀性,并观察膜层的表面和截面SEM。再根据表面SEM照片统计膜层表面的孔隙率和微孔,最后计算并比较每个实验方案的成膜效率。归纳分析放电时间和冷却时间分别对微弧氧化膜层生长及性能的影响规律。结果表明:在总的放电时间相等的条件下,当固定放电时间不变,随着冷却时间的增大,膜层的厚度先增大后不变,膜层的耐蚀性越好,所以综合考虑膜层的厚度和耐蚀性,应该适当增加冷却时间;当固定冷却时间不变,随着放电时间增大,膜层的厚度减小,膜层的耐蚀性变差,所以综合考虑应该减小放电时间;当放电时间和冷却时间相等且同步增大时,膜层的厚度逐渐变薄,膜层的耐蚀性变好,综合考虑放电和冷却时间应该取较小的值。