【摘 要】
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采用射频磁控溅射法和脉冲激光沉积技术(PLD)，在双面抛光的石英基片上制备了SrBi2Ta2O9铁电薄膜和掺杂有金属纳米团簇的复合薄膜，并对薄膜的线性光学与非线性光学性质、结晶性
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采用射频磁控溅射法和脉冲激光沉积技术(PLD)，在双面抛光的石英基片上制备了SrBi2Ta2O9铁电薄膜和掺杂有金属纳米团簇的复合薄膜，并对薄膜的线性光学与非线性光学性质、结晶性以及薄膜表面形貌等进行了比较详尽的研究分析。论文工作的内容和结论如下：
(1)利用射频磁控溅射技术在石英基片上制备了SrBi2Ta2O9铁电薄膜。XRD结果表明薄膜样品为(115)择优取向，具有很好的结晶性；利用原子力显微镜(AFM)对薄膜表面进行了表征，发现样品晶粒排列比较致密，表面平整度比较好；通过紫外-可见光光谱分析了薄膜的线性光学性能，计算出其折射率n=3.05，厚度为349nm；利用Z扫描技术对薄膜非线性光学性能进行了测量，从而计算出其三阶非线性光学极化率的实部和虚部分别为Rex(3)=8.29×10-9esu和Imx(3)=1.08×10-9esu。利用PLD技术在石英基片上制备了晶体结构不同的SrBi2Ta2O9薄膜，并研究了其光学性能。
(2)利用射频磁控溅射技术和共溅法在石英基片上制备了掺Cu的SrBi2Ta2O9复合薄膜，XRD分析表明薄膜具有良好的结晶性，呈(115)择优取向；AFM图像分析表明薄膜晶粒排列非常致密均匀，表面平整度比较好；通过紫外-可见光光谱分析薄膜线性光学性能，得到其折射率为2.841，厚度为330nm；利用Z扫描技术测试分析了复合薄膜的三阶非线性光学性能，结果表明其Rex(3)=2.26×10-9esu和Imx(3)=0.62×10-9esu。
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