ArF光源是投影光刻机的最关键部件之一，全球仅有美国和日本两家公司能够提供，投影光刻机是集成电路最关键设备，也是国家科技重大专项重点研发任务，全球仅有欧洲荷兰和日本的三家公司能够研发。净化技术与温控技术是ArF光源的两个关键技术，本论文主要研究上述两个关键技术，提供相应的技术解决方案，并进行实验验证。在ArF光源中，与上述两个关键技术对应的是净化单元和温控单元。净化单元主要是控制ArF光源的腔室中的污染浓度，保持光学系统的性能稳定。本文采用向腔室注入净化气体、控制腔室微正压于外部环境的方案，实现腔室净化的目标。微正压控制采用毛细管节流稳压原理，在腔室的入口采用毛细管，出口采用节流阀，利用毛细管的节流稳压特性，当外界气压波动时，腔室的微正压可以保持稳定。温控单元主要控制腔室的温度，保持其中的光学系统性能稳定。本文采用工厂冷却水与腔室热交换、通过开关阀反馈控制冷却水的流量方式控制腔室温度。本文分析了影响腔室内外压力差的因素，研究了腔室内外压力差与环境气压变化之间的关系，建立了腔室内外压力差与毛细管长度和直径之间的关系并分析了腔室内外压力差与出口背压之间的关系。本文研究了冷却水温度波动对腔室温度控制稳定性的影响，分析了ArF光源工作状态下腔室热负载变化，建立了温度控制的传递函数，设计了PD模糊控制器并进行了控制仿真。本文建立了ArF光源净化与温控两个实验装置，建立了ArF光源的模拟腔室，分别开展了气压净化和温度控制实验，实现了微正压性能达到20.3mBbar±1.1mBar/长期，温度控制性能达到22.05±0.2℃/5分钟，22.05±0.3℃/长期。证明了本论文设计的ArF光源净化与温控技术方案可行，该技术将直接用在后续的国产ArF光源研发中。