NF3和SF6在一些金属氧化物上的分解反应

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【摘要】

：

NF3是半导体工业大量使用的清洗气和蚀刻气，SF6是现阶段最佳的气体灭弧介质，两者均有较高的温室效应潜值（GWP），如SF6的GWP为22800，寿命约3200年。在无水条件下，NF3和SF6与金属氧化物直接反应生成金属氟化物，是消除NF3和SF6的有效方法。本论文考察了NF3在MgO、Al2O3系列脱氟剂上的无水分解反应，以及无水条件下SF6在NaF-Si-MO（金属氧化物）三元混合物上的分解反

【作者】

：

殷春晓

【机构】

：

烟台大学

【发表日期】

：

2014年05期

【关键词】

：

NF3分解 SF6分解脱氟剂改性 MgO Al2O3 NaF-Si-MO 三元混合物

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