【摘 要】
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铝掺杂氧化锌（AZO）薄膜，具有良好的光电学性能，同时原料丰富、成本低、无毒，而在平板显示器、薄膜太阳能电池、触摸屏等光电设备上有较好的应用前景，是目前替代氧化铟锡（ITO）主流透明导电薄膜的研究热点。实现AZO薄膜的低成本制备，同时提高其光电性能，对于降低光电器件的成本具有重大意义。磁控溅射法因具有沉积速率高、基底温度较低且薄膜的附着性好等优点，而被研究者广泛用来制备AZO薄膜。不同于常规的AZ
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铝掺杂氧化锌（AZO）薄膜，具有良好的光电学性能，同时原料丰富、成本低、无毒，而在平板显示器、薄膜太阳能电池、触摸屏等光电设备上有较好的应用前景，是目前替代氧化铟锡（ITO）主流透明导电薄膜的研究热点。实现AZO薄膜的低成本制备，同时提高其光电性能，对于降低光电器件的成本具有重大意义。磁控溅射法因具有沉积速率高、基底温度较低且薄膜的附着性好等优点，而被研究者广泛用来制备AZO薄膜。不同于常规的AZO陶瓷靶材，本文以金属Zn和Al为靶材，采用双靶反应磁控共溅射法，以期更低成本地制备出AZO透明
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