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高密度等离子体辅助CVD工艺在集成电路制造中应用与改善

来源 :天津大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaoyu19771121

【作 者】

：

李斌 

【出 处】

：

天津大学

【发表日期】

：

2020年1期

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