衬底偏压对磁头表面超薄DLC膜的结构和性能的影响

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【摘要】

：

本文以磁过滤真空阴极弧(Filtered Cathodic Vacuum Arc)技术制备的DLC薄膜为研究对象。通过改变衬底偏压和沉积时间研究磁头表面不同厚度DLC薄膜的结构、表面状态和性能随着衬底偏压的变化规律。以此为基础,我们可以更好的改进磁头表面超薄DLC的结构和性能并且优化超薄DLC的制备工艺,最终能够改进磁头的性能并延长磁头的使用寿命。目前,对于2nm左右的超薄DLC薄膜的研究还比较少

【作者】

：

张磊

【机构】

：

哈尔滨工业大学

【发表日期】

：

2008年06期

【关键词】

：

超薄类金刚石膜磁过滤真空阴极弧磁头拉曼光谱 X射线光电子能谱

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