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GaN二次生长界面的研究
【摘 要】
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氮化镓(GaN)因其优异的材料性能,在高频高压的电子元器件领域有着巨大的应用前景。随着GaN单晶衬底技术的发展,同质外延成为研究的热点。GaN同质外延在界面处存在杂质聚集现象,这一问题限制了 GaN同质器件发展。在电力电子器件中,二次生长界面是一个不可控的副沟道。二次生长界面的厚度在几十甚至上百纳米,其杂质聚集的特性在氮化镓基激光器结构中会影响谐振腔的广场分布。基于金属有机化合物化学气相沉积(MO
【机 构】
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中国科学技术大学
【出 处】
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中国科学技术大学
【发表日期】
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2021年08期
【基金项目】
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