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大失配缓冲层技术外延生长In_(0.3)Ga_(0.7)As薄膜及其电池制备

来源 :华南理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sdcwsjy

【作 者】

：

高芳亮 李国强 

【出 处】

：

华南理工大学

【发表日期】

：

2018年04期

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