目的：观察采用脱细胞技术初步研制出来的脱细胞脑组织基质修复支架的形态结构，及其与神经干细胞共培养时细胞的生长情况，为研制出理想的脑组织损伤修复支架提供初步的实验依据。 方法：①脱细胞脑组织基质修复支架制各：运用反复冻融、蛋白酶和 Triton X-100脱细胞，碳环氧化物交联等方法处理成年SD大鼠皮层脑组织，初步制成脱细胞脑组织基质修复支架。②修复支架材料的形态学观察：分别通过光学显微镜和扫描电镜观察修复支架材料表面的三维立体构型和内部结构特征。③免疫组化分析正常脑组织和修复支架材料内细胞外基质成分：通过免疫组化的方法对比正常脑组织和脱细胞修复支架材料中三种重要的细胞外基质FN、LN和Col Ⅲ的含量和分布情况。④神经干细胞与修复支架材料体外共培养：取指数生长期的SD大鼠脑源性神经干细胞，通过荧光染料DAPI标记后与修复支架材料体外共同培养，倒置相差荧光显微镜和扫描电镜观察神经干细胞生长、增殖、分化以及与修复支架材料的粘附情况。 结果：①成年SD大鼠新鲜脑组织经脱细胞处理后，细胞成分已大部分去除，形态上具有高度仿生的三维立体孔洞结构，孔洞形态相似，孔径大小相近，约90μm左右，亲水性良好。经碳环氧化物交联过后，修复支架材料的生物稳定性增强，置于PBS包装液中长期低温保存，未出现降解。②免疫组化结果显示，三种细胞外基质在正常脑组织中含量相对偏少，且分布与文献报道相符，但在修复支架材料中未检测出来。③修复支架材料与神经干细胞体外共培养时，细胞可粘附于材料表面，但粘附力较弱，细胞生长良好，且未出现分化现象。 结论： 1.初步研制的脱细胞脑组织基质修复支架具备了神经修复支架材料的基本物理学条件； 2.初步研制的脱细胞脑组织基质修复支架体外与神经干细胞相容性良好，但与细胞的粘附力有待增强； 3.在脱细胞脑组织基质修复支架材料研制过程中，如何保留细胞外基质的主要成分，有待进一步优化。