PMMA基复合介质的微观结构设计与储能性能研究

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电介质电容器是一类重要的能量存储与转化器件,其在高压输电系统、新能源汽车、电磁弹射武器等领域具有广泛应用。相较于电池和超级电容器,电介质电容器因兼具功率密度高、充放电快速、运行稳定性好等优点而备受青睐。其中,具有线性极化性质的聚合物(如聚甲基丙烯酸甲酯,PMMA)其极化损耗相对低、储能效率较高,但较低的相对介电常数导致其储能密度不高。另外,高场条件下电极处电荷注入问题突显,引起电导损耗增大、储能性能严重劣化。基于此,本文旨在通过结构设计来改善PMMA介质薄膜的储能性能,为高性能聚合物基储能介质研究提供参考。
  本文选择PMMA作为聚合物基体,高介电常数钛酸锶钡纳米纤维(BaSrTiO3NFs,记为BSTNFs)作为填充相,利用流延法制备介质薄膜。通过改变填充相掺杂含量并结合表面修饰技术来构筑PMMA基复合介质体系,并对其微观结构、介电性能、击穿特性、极化特性和储能性能进行了系统表征与测试分析。研究表明,随着BSTNFs掺杂含量增加,复合介质的介电常数和极化强度逐渐增大,击穿场强逐渐降低。当施加电场强度为440kV/mm时,1vol.%BST/PMMA复合介质的储能密度为10.6J/cm3,是纯PMMA薄膜的1.16倍,充放电效率为77%。此外,研究发现,选择经SiO2表面修饰的BST(记为BST@S)作为填充相时,并未明显改善复合介质的击穿场强和储能性能。
  为抑制高电场下复合介质的电导损耗,进一步改善PMMA基复合介质的储能性能,本文提出利用磁控溅射技术在PMMA介质薄膜表面原位生长宽禁带SiO2绝缘层。通过改变溅射时间来调控SiO2绝缘层厚度,系统研究了SiO2薄层厚度对复合介质微观结构和储能性能的影响规律。研究表明,当溅射时间为2小时,SiO2薄层厚度约为240nm,此时复合介质展现出较为优异的储能性能。当施加电场为520kV/mm时,SiO2/PMMA/SiO2复合介质的能量密度为14.5J/cm3,是纯PMMA的1.59倍,效率达到87.4%。1vol.%BST/PMMA复合介质生长SiO2绝缘层之后,其放电能量密度达到15.7J/cm3,充放电效率为79.8%。
  
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