SrTiO3空位缺陷及替位掺杂的第一性原理计算

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SrTiO3是一种钙钛矿金属氧化物绝缘体,它被广泛用于晶界电容器、氧敏传感器、光开关、生长高温超导薄膜的衬底,作为高电容率材料在超晶格和下一代超大规模集成器件中具有潜在的应用价值。目前,对SrTiO3电子结构、半导化掺杂、导电模型、缺陷态、表面/界面态等方面已有了不少的理论和实验研究。其中对于n型掺杂前人研究较多,对于p型掺杂和各种空位缺陷研究较少。本文采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理软件VASP,对SrTiO3材料的电子结构、本征缺陷、掺杂改性进行研究,所用软件为VASP(Vienna Ab-initio Simulation Package)软件包。主要研究内容及结果如下:一、系统地计算了SrTiO3几何和电子结构,包括晶体结构、能带结构、态密度。计算结果表明SrTiO3是一种间隙半导体。比较总态密度和各原子得分波态密度可知,价带顶(R点)电子主要由O 2p态电子提供,导带底(г点)电子主要由Ti 3d提供。二、系统地计算了不同空位浓度下SrTiO3-x,Sr1-xTiO3和SrTi1-xO3(X=0.125,0.25,0.33)的几何结构和电子结构,包括晶格常数,能带结构、态密度、分波态密度。结果表明:通过引入O空位,使体系费米能级进入导带中。并且随着空位浓度的增大,进入到导带中的位置越深,属于n型掺杂,在禁带中产生了缺陷能级;引入Sr空位或Ti空位后,体系的费米能级进入到价带中,并且随着空位浓度的增大,进入到价带中的位置越深,属于p型掺杂,在价带项附近引入了缺陷能级。三种空位的引入,都使体系从绝缘性向金属性转变,其中Ti空位对体系导电性改善效果最好。三、研究了不同掺杂浓度替位掺杂对SrTiO3几何结构和电子结构的影响。结果显示Y替位Sr掺杂属于n型掺杂,体系Sr1-xYxTiO3(X=0.125,0.25,0.33)的费米能级进入导带中,在导带底出现大量由掺杂原子贡献的自由载流子-电子,明显提高了电导率,改善了SrTiO3的导电性能。In或Al替位Ti掺杂为p型掺杂,体系SrTi1-xInxO3(SrTi1-xAlxO3)(X=0.125,0.25,0.33)的费米能级进入价带中,掺杂在价带顶附近引入缺陷能级,费米能级处电子态密度不为零,从而使得体系的导电能力增强。三种情况下的掺杂都使体系转变为金属性,其中Y替位Sr对体系导电性改善效果最好。
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