氟化镁因其透过率高、介电常数和介电损耗小等特点,是3-5μm红外波段范围常用的窗口和整流罩材料之一。但其机械强度较差,易划伤,很难满足在恶劣环境下的使用要求,所以必须在其表面镀制增透保护膜。本文选用H4作为高折射率材料,Si02作为低折射率材料,并利用TFCalc软件设计膜系。经多次实验发现SiO2材料存在吸收,很难达到理论设计的透过率要求。为了满足膜层结合牢固并达到有效透过率,最终选用MgF2与Si02组合作为低折射率层并重新设计优化,得到了理想的设计膜系。在传统热蒸发技术中采用了离子源辅助沉积技术以增强膜层牢固度,并不断优化工艺参数,控制膜层质量,制备出透过率较好的增透膜。最后采用射频等离子体增强化学气相沉积技术(RF-PECVD)在膜层最外层表面沉积类金刚石(DLC)保护膜。通过对比试验,以沉积时间作为不变因素,反应气体流量和沉积温度作为变量进行工艺研究,分析了工艺参数对成膜质量的影响。并通过物理测试和光学性能测试得到了镀制DLC保护膜的最佳工艺,达到了保护效果的同时不影响整体有效透过率。通过镀制过渡层的方法,解决了膜层间由于应力产生的结合度问题,达到了增透和保护的有机统一。所镀薄膜在3-5μm中红外波段的平均透过率大于95%,能够承受恶劣的环境测试,各项指标均满足使用要求。