软件系统漏洞发现及倾向性预测关键技术研究

来源 :桂林电子科技大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ouyang0502
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本论文采用单向脉冲电沉积工艺,以黄铜片为基体,制备了Ni-SiO2纳米复合镀层,考察了镀液组成及脉冲电沉积工艺参数等对Ni-SiO2复合镀层性能的影响,确定了Ni-SiO2纳米复合镀层的最佳制备工艺。结合能量色散谱仪(EDS)、扫描电子显微镜(SEM)及X射线衍射仪(XRD)等测试技术,对镀层的组成、结构、形貌、硬度及耐磨性能等进行了研究,并初步研究了沉积方式对镀层性能的影响。通过改变镀液中SiO
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