磁致冷材料Gd表面磁控溅射薄膜耐腐蚀性能研究

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室温磁制冷技术具有节能、环保等突出优点,越来越受到人们的关注。磁致冷材料作为其中的关键技术,对磁制冷技术的发展有着举足轻重的作用。目前室温磁致冷技术都选择Gd及其合金或者稀土化合物作为磁致冷工质,因为所研究的众多材料中,Gd及其合金或者稀土化合物具有大的绝热温变效果,但Gd在热交换介质中腐蚀严重,严重影响了磁致冷样机的制冷效率和使用寿命。为了提高Gd在腐蚀介质中的耐腐蚀性能,本文利用磁控溅射技术,在Gd表面分别溅射不同防腐覆盖层(Ti、1Cr18Ni9Ti、Al、Cu),研究Gd溅射不同防腐覆盖层的水腐蚀速率、电化学极化曲线及绝热温变等性能。去离子水和蒸馏水腐蚀试验结果表明:Gd在水腐蚀环境中表面逐渐钝化,阻碍腐蚀液进一步腐蚀;Ti膜和Al膜具有良好的耐腐蚀性能,但由于溅射薄膜厚度太薄,腐蚀50天左右局部发生点蚀:Cu膜由于与基体Gd之间的润湿性不好,导致界面处结合较差,薄膜发生起皱、脱落;1Cr18Ni9Ti膜由于各组元溅射率不同,导致溅射薄膜成分与原成分有所差异,因此耐腐蚀性能下降。采用美国产的EG&G M283型恒电位仪,三电极体系动电位法测量溅射不同保护膜Gd在蒸馏水中的循环极化曲线,结果显示:溅射保护膜后提高了Gd的自腐蚀电位,降低了极化电流密度,提高了Gd的电化学腐蚀性能。利用自制的绝热温变测试仪器研究了溅射不同保护膜对Gd磁热效应的影响,测试结果表明:溅射保护膜后,磁化和去磁时产生最大温变处温度与Gd相近,但产生的最大温变有不同程度的影响。
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