【摘 要】
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该文采用氨气气氛下反应离子束溅射方法制备铁氮化合物薄膜.通过X-射线衍射和卢瑟夫背散射技术对薄膜的微观结构及成分进行分析测试.我们首先研究了铁氮化合物薄膜的热稳定性
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【出 处】
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中国科学院上海冶金研究所 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
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该文采用氨气气氛下反应离子束溅射方法制备铁氮化合物薄膜.通过X-射线衍射和卢瑟夫背散射技术对薄膜的微观结构及成分进行分析测试.我们首先研究了铁氮化合物薄膜的热稳定性.采用振动样品磁强计对铁氮薄膜的磁学性能进行了测试.我们还对铁氮化合物薄膜在180℃热处理过程中的饱和磁化强度的变化行为进行了测试.
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